EDI設(shè)備的保存為什么和普通的水不一樣？
EDI設(shè)備可以是制成品水，進(jìn)到純儲(chǔ)水箱儲(chǔ)存，為了確保水體，青島EDI設(shè)備選用氫氣密封性的方式，即從純儲(chǔ)水箱的頂端灌進(jìn)氫氣。供電后，液位儀真空電磁閥與PLC相互配合，當(dāng)純儲(chǔ)水箱的水位線小于較低水位線時(shí)，PLC運(yùn)行水處理程序流程，全部開機(jī)啟動(dòng)水處理，直到純儲(chǔ)水箱的水量做到*大水位線，系統(tǒng)軟件終止水處理，那樣循環(huán)系統(tǒng)，維持純儲(chǔ)水箱的水位線。
選用電鍍工藝去離子水設(shè)備的特性是水體平穩(wěn)，成本費(fèi)相比較低。去離子水設(shè)備是一種用以除去水里的微離子的水處理系統(tǒng)，如ro反滲透.離子交換器.EDI等。去離子水設(shè)備特性平穩(wěn)，廣泛運(yùn)用于藥業(yè)、電子器件、化工廠、夾層玻璃、水渠、加熱爐、試驗(yàn)室等領(lǐng)域。青島EDI設(shè)備電鍍工藝的生產(chǎn)流程。
1.離子交換法的流程如下所示：源水→原水壓力泵→砂過(guò)濾裝置→多介質(zhì)過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→呈陽(yáng)性環(huán)氧樹脂過(guò)濾裝置→呈陰性環(huán)氧樹脂過(guò)濾裝置→陽(yáng)陰環(huán)氧樹脂切換閥→微孔過(guò)濾器→水點(diǎn)的應(yīng)用。
2.源水→原水加壓水泵→砂過(guò)濾機(jī)→多介質(zhì)過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→ro反滲透→純儲(chǔ)水箱，選用ro反滲透方法。
3.青島EDI設(shè)備應(yīng)用ro反滲透混合床，加工工藝如下所示：源水→原水壓力泵→砂過(guò)濾裝置→多介質(zhì)過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→ro反滲透→純儲(chǔ)水箱→壓力泵→離子混合床→反滲透設(shè)備→水點(diǎn)。