電子超純水設(shè)備
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電子超純水設(shè)備
電子行業(yè)超純水設(shè)備制水工藝：
1（雙級反參透）加EDI（電脫鹽）,核子級混床以及除TOC及紫外線出水指標(biāo)一般均達(dá)到18MO-CM以上。
2.反參透（1級或2級反參透）加EDI（電脫鹽），此工藝最大的優(yōu)點(diǎn)是操作簡單，無需樹脂再生工藝，且出水指標(biāo)一般均達(dá)到15MO-CM以上。
超純水設(shè)備制水工藝流程圖：
電子行業(yè)超純水設(shè)備技術(shù)特征：
※制取電子級超純水
※可連續(xù)自動生產(chǎn)，不必停機(jī)再生
※出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法
※不需酸堿再生，不污染環(huán)境
※運(yùn)行成本低，占地面積小
進(jìn)水水質(zhì)要求：
※鐵離子： < 0.01mg/L
※游離氯： < 0.5mg/L
※硬度： < 1.0mg/L
※活性SiO2: < 0.5mg/L
※總有機(jī)碳： < 0.5mg/L
※PH： 5.0-9.0
電子行業(yè)超純水設(shè)備性能指標(biāo)：
※出水電阻率： 10-18MΩ.cm
※SiO2： <10 ppb
※Na+： <10 ppb
※脫鹽率： >99.5%
※單臺產(chǎn)水量： 1-450 m3/h
電子行業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用范圍：
※電力、石化及冶金行業(yè)的水處理除鹽
※電子行業(yè)超純水的制取
※醫(yī)藥行業(yè)超純水的制取
電子行業(yè)（特別是微電子行業(yè)）純水需求量大，其特點(diǎn)是水質(zhì)要求較高.
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